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俄罗斯:2024年将制造350nm光刻机

根据俄罗斯媒体报道指出,俄罗斯正在研发生产芯片的光刻机。

其工业和贸易部副部长Vasily Shpak在接受媒体访问时指出,2024年将开始生产350纳米光刻机,2026年启动用于生产130纳米制程芯片的光刻机。其生产将在莫斯科、泽列诺格勒、圣彼得堡和新西伯利亚的现有工厂进行。qL8esmc

Vasily Shpak指出,当前全球只有两家公司生产此类设备,包括日本尼康和荷兰ASML。然而,其对于半导体的生产相当重要。 qL8esmc

Vasily Shpak表示,2024年就将拨款2114亿卢布用于俄罗斯电子产品的开发。俄罗斯决定开发350纳米到65纳米光刻机的原因,在于这一技术范围内的芯片多用于微控制器、电力电子、电信电路、汽车电子等方面上,这些应用大约占市场的60%。所以,这项设备在全世界市场的需求量很大,并且将在至少10年内有持续的需求。qL8esmc

另外,当被问到可能遭遇的阻力时,Vasily Shpak说,我不想抱怨,所有的问题都不是问题,因为这关系到我们拥有哪些机会,以及所设定的目标。qL8esmc

责编:Elaine
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