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证监会同意龙图光罩首次公开发行股票注册

1月3日,证监会披露了关于同意深圳市龙图光罩股份有限公司(以下简称:龙图光罩)首次公开发行股票注册的批复,同意龙图光罩科创板IPO注册申请。据悉,龙图光罩主营半导体掩模版的研发、生产和销售,是国内稀缺

1月3日,证监会披露了关于同意深圳市龙图光罩股份有限公司(以下简称:龙图光罩)首次公开发行股票注册的批复,同意龙图光罩科创板IPO注册申请。

据悉,龙图光罩主营半导体掩模版的研发、生产和销售,是国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商。目前,龙图光罩半导体掩模版的工艺节点已从1μm逐步提升至130nm,产品的应用领域也随之从分立器件、LED、IC封装、光学器件等,逐步扩大至制程水平和精度要求更高的MEMS传感器、功率器件、电源管理芯片、模拟IC等。5ACesmc

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图源:龙图光罩招股书5ACesmc

2020年-2023年上半年,应用于功率半导体领域的掩模版是龙图光罩最主要的收入来源,且营收和营收占比呈现逐年递增的趋势。龙图光罩指出,在功率半导体掩模版领域,公司的工艺节点已覆盖全球功率半导体主流制程的需求。5ACesmc

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此次上市,龙图光罩计划募资66,320万元,用于以下项目:5ACesmc

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其中,“高端半导体芯片掩模版制造基地项”是通过对公司现有核心产品的技术升级,实施更高制程(130nm-65nm节点)半导体掩模版的开发及产业化,加速实现130nm工艺节点以下半导体掩模版的国产替代进程;“高端半导体芯片掩模版研发中心项目”则将根据市场及客户的需求开展高端半导体掩模版技术工艺的研发。5ACesmc

合作研发方面,龙图光罩在2021年与广东省科学院半导体研究所签署了《产学研合作协议》,约定双方合作开展科学研究及半导体行业前沿技术开发应用,双方重点就深紫外LED器件、新型显示技术Micro LED、第三代宽禁带半导体用掩模版展开研发及应用合作。5ACesmc

  LEDinside Lynn整理5ACesmc

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王春胜 Perry Wang5ACesmc

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TrendForce集邦咨询旗下光电研究处。研究领域包括MicroLED、MiniLED、照明、显示屏、紫外线(UV LED)、红外线 (IR LED/VCSEL)、化合物半导体等。
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