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美系光刻胶能否解决韩系半导体厂商的燃眉之急?

近日,日本对韩国进行出口限制,光刻胶材料赫然在列。据了解日本作为光刻胶材料大国,占据了全球9成左右的光刻胶市场份额。而目前在高端芯片制造过程中KrF、ArF光源下使用的光刻胶也基本被美日企业所垄断。此后,日本销往韩国的光刻胶将有三个月的审核期,而韩国半导体企业的材料库存不够三个月的使用量。在这期间,美系光刻胶产品能否解决韩国半导体厂商的燃眉之急?

投入研发短期内难以出成果

韩媒3日报道,韩国政府就日本限制对韩出口的应对方案作出回应,将计划每年投入1万亿韩元(约合人民币58.8亿元),推进对半导体材料、零部件和设备的研发,正在对此进行可行性调查。

不过,光刻胶是国际上技术门槛最高的微电子化学品之一。其行业集中度高,龙头企业市场份额高,行业利润水平高,且暂无潜在替代产品。又因为,作为半导体芯片产业的上游产品部分,光刻胶产品的质量直接影响下游芯片产品的质量,因此下游行业企业对光刻胶产品的质量和供货能力十分重视,上下游的合作模式比较稳固,新的供应商较难加入供应链。

另外,随着半导体IC的集成度日渐提升,对光刻技术的精密性要求也不断严格,半导体光刻胶也通过不断缩短曝光波长的方式来提高极限分辨率。据了解,光刻胶的曝光波长由宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)的方向移动。当前,半导体芯片市场对于g线和i线光刻胶使用量最大,KrF和ArF光刻胶技术被日本和美国企业垄断,韩国和中国作为追赶者正在积极研发ArF193nm光刻胶技术。

美系光刻胶是否能解救韩系半导体厂的危机?

在全球光刻胶市场,日本占有非常重要的位置。全球专利分布前十的公司,有7成是日本企业。其中,日本JSR和东京日化可量产市面上几乎所有的光刻胶产品(EUV光源用光刻胶正在研发中),信越化工、富士电子、住友化工在当下主流的半导体光刻胶领域也有较突出的表现。

光刻胶.JPG

在韩国,东进化学、LG化学、锦湖化学、COTEM等也生产光刻胶材料,锦湖化学为SK海力士半导体供应ArFDry产品以及部分ArF Immersion产品,东进化学在半导体领域仍只供应KrF以下等级部分产品。实际上,韩国本土光刻胶企业目前暂不具备量产KrF以上的光刻胶的能力。而韩国的半导体制造工厂的技术最高已经达到7nm,三星电子和SK海力士均有ArF和EUV光刻机设备。目前,在全球范围内能生产ArF光刻胶的企业主要以日美两国企业为主,Euv光刻胶还在研发阶段。如果日韩两国的关系没有及时得到修复,库存的材料用尽,新的材料又尚未走完审核流程的这段时间里,三星电子和SK海力士的一些产线将面临停摆的风险。

日前,SK海力士发言人对媒体表示,如果两国之间的问题得不到妥善的解决,且不能追加半导体材料采购,未来或将出现停产的情况。而在这个空缺期,美系光刻胶企业是否能成为韩系半导体厂商的“续命丹”?

美国陶氏化学具备量产市面上全线光刻胶产品的能力,韩国半导体企业在被日本限制出口之后,它或将成为最佳选择。不过,与众多日系光刻胶企业相比,陶氏化学的产能能否满足韩国半导体企业的需求,还是个问题。

值得注意的是,韩国在日本宣布对其限制进口之后才明确表示加大对半导体材料的研发力度,相信在韩方有所成绩之前,该国的半导体厂商依旧需要购买日方的材料。此前三星电子和SK海力士的光刻胶材料主要有日本企业供应,如果在这个节点转向美系企业是否会顺利?国际电子商情将持续关注。

 

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