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又一重大项目签约临港,加速涂胶显影设备国产化

国际电子商情11日讯 昨日(3月10日),众鸿半导体项目签约仪式在临港产业区举行,该项目将推动众鸿涂胶显影设备实现量产。

加速12英寸涂胶显影设备量产进度

据《国际电子商情》了解,众鸿是在半导体集成电路设备制造领域涉猎设备再制造、软硬件优化产能提升、核心配件维修等服务,其核心产品是专用光阻涂胶显影设备。该设备主要应用于Si、化合物半导体GaAs/ GaN/SiC等集成电路制造领域。目前,众鸿的合作客户有中芯国际、台积电、 三安集成、积塔半导体、华润上华、长电科技、通富微、塞莱克斯等公司。za1esmc

此次签约之后,众鸿半导体将在临港产业区钻石园8-2厂房进行设备的批量生产使用。za1esmc

根据规划,2019年,众鸿已经在临港产业区新侨产业园注册成立研发中心;2020-2022年,众鸿自研涂胶显影设备将研发完成并实现量产。此次在临港产业区钻石园新增的生产厂房,将作为众鸿设备量产基地使用。2021-2023年,众鸿将依次量产12英寸涂胶显影设备和其他半导体设备。za1esmc

半导体设备国产化势在必行

据悉,涂胶显影设备是光刻工艺主设备之一,也是芯片制程中必不可少的处理设备。它利用机械手实现晶圆在各系统间的传输和加工,与光刻机达成完美配合从而完成晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影等工艺过程。作为晶圆加工环节的重要工艺设备,涂胶显影设备在晶圆厂设备采购中占据重要地位。za1esmc

2016年,中国(含台湾地区)前道涂胶显影设备的销售额约为8.57亿美元,预计该数字将在2023年达到10.26亿美元。不过,如今中国大陆地区的前道晶圆加工领域中的涂胶显影设备,主要由日本东京电子所生产。具体来看,目前在中国大陆的涂胶显影设备市场中,日本东京电子的市占率大于90%,而国内厂商的市占率仅为4%。za1esmc

值得注意的是,《中国制造2025》中针对国产半导体制造设备提出了明确要求:在2020年结束之前,90-32nm工艺设备国产化率达50%,实现90nm光刻机国产化、封测关键设备国产化率达50%;在2025年结束之前,20-14nm工艺设备国产化率达30%,实现浸没式光刻机国产化。在经济上,启动了国家集成电路基金二期,计划针对集成电路行业注入2,000亿元资金。za1esmc

在此背景下,众鸿半导体项目在临港产业区的新动态,受惠于优惠政策的扶持,也反应了我国半导体设备企业自身的努力。期待半导体设备的国产化进程进一步提升。za1esmc

责任编辑:Cloverza1esmc

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