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光刻胶产能紧缺,盘点全球13家供应商产品类型(附表)

国际电子商情23日讯 昨日(3月22日)午间,央视财经报道当前制造芯片的材料产能紧缺,企业进口光刻胶困难。据海关人员介绍,此前半导体企业每次能采购到100多公斤光刻胶,而现在每次只能采购到10-20公斤,同时光刻胶的价格也在上涨。《国际电子商情》简要盘点了13家光刻胶企业的产类型及进度。

半导体光刻胶缺货

在价格方面,受下游需求不断增加,芯片价格上涨的影响,光刻胶的价格也迎来了上涨。南京海关工作人员介绍,仅在今年1-2月,江苏昆山口岸进口的集成电路金额总数就超过了100亿元人民币,在进口集成电路数量和去年基本持平的情况下,进口金额却增长了20%。此外,该海关人员也表示,此前企业每次能采购到100多公斤光刻胶,而现在每次只能采购到10-20公斤。Lmaesmc

很明显,最近半导体行业的缺“芯”难题,已经上导到上游材料领域。由于半导体光刻胶的行业集中度高,龙头企业市场份额高,行业利润水平高,且暂无潜在替代产品。作为半导体芯片产业的上游材料部分,光刻胶产品的质量直接影响下游芯片产品的质量。下游企业对光刻胶产品的质量和供货能力十分重视。Lmaesmc

全球半导体光刻胶市场格局

光刻胶根据用途主要可分为以下几类:半导体光刻胶、LCD光刻胶、PCB光刻胶以及其他光刻胶。其中,半导体光刻胶约占27%,LCD光刻胶和PCB光刻胶分别各占24%,其他光刻胶产品占据25%。本文重点讨论半导体光刻胶。Lmaesmc

半导体光刻胶主要通过不断缩短曝光波长,从最初的宽谱紫外向g线-i线-KrF-ArF-EUV(13.5nm)发展,提高极限分辨率来满足不断精进的光刻技术需求。当前,半导体市场对g线和i线光刻胶的使用量最大,KrF、ArF、EUV光刻胶主要配合高端的光刻机应用,日、美企业占据了绝大部分高端光刻胶的产能。Lmaesmc

13家光刻胶厂商产品进度

目前,日本占据了全球9成左右的光刻胶市场份额。全球专利分布前十的公司,约有7成来自日本。其中,日本JSR和东京日化、信越化工掌握着EUV光刻胶的供应,富士胶片和住友化学也计划将在2021年量产EUV光刻胶。Lmaesmc

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表1 盘点13家光刻胶供应商产品进度Lmaesmc

2019年,日本宣布对韩国进行出口限制,其中就包括了光刻胶材料,引发了韩国半导体产业的供应危机。实际上,韩国的东进化学、LG化学、锦湖化学、COTEM等也生产光刻胶。比如,锦湖化学为SK海力士半导体供应ArFDry产品以及部分ArF Immersion产品,东进化学为半导体行业供应KrF以下等级部分产品。Lmaesmc

国产光刻胶新突破!

另外,值得肯定的是,国内相关企业在近年来也在集中力量攻克高端光刻胶的产业化。以宁波南大光电为例,该公司自主研发的ArF193nm光刻胶产品在2020年12月通过了客户的使用认证,这意味着我国ArF光刻胶产品开发和产业化项目取得了关键性的突破。Lmaesmc

同时,上海新阳也在积极攻克ArF193nm技术,本月初该公司发布公告披露了关于购买ASML-1400光刻机的最新进展。上海新阳表示,该公司采购的ASML干法光刻机设备已经顺利交付,对加快193nm ArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响。Lmaesmc

据了解,ArF光刻胶可凭借双/多重曝光技术,增加光刻胶使用次数,理论上是可用于28-7nm制程工艺的芯片中。Lmaesmc

原创
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李晋
国际电子商情助理产业分析师,专注汽车电子、人工智能、消费电子等领域的市场及供应链趋势。
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