Intel自CEO基辛格执掌以来,重视技术,推出IDM2.0战略,不仅仅在技术方面进行快速研发,在芯片制造方面更是雄心勃勃。最近有消息显示,其原定于2025年将开始进行芯片制造的计划将提前到2024年下半年。
Intel自CEO基辛格执掌以来,重视技术,推出IDM2.0战略,不仅仅在技术方面进行快速研发,在芯片制造方面更是雄心勃勃。最近有消息显示,其原定于2025年将开始进行芯片制造的计划将提前到2024年下半年。OL9esmc
经历了多年的制程迭代延期,芯片巨头英特尔现已决定将基于 18A 工艺的处理器制造计划,提前至 2024 年下半年。通过 Mod3 扩建计划,该公司正在扩建其位于俄勒冈州的 D1X 工厂。新建筑面积为 27 万平方英尺,用以安装最大的新芯片制造设备。OL9esmc
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在帕特·基辛格去年重返公司并担任首席执行官之前,英特尔在制造现代化上已经长期落后于台积电(TSMC)和三星。OL9esmc
随着新 CEO 的上任,英特尔终于重新制定了路线图,并将于四年内带来五次制造工艺的改进 —— 分别为 Intel 7、Intel 4、Intel 8、以及 Intel 20A 和 Intel 18A 。OL9esmc
每一次制程工艺的迭代,都会带来功耗性能方面的积极改进。而为此砸下数百亿美元的英特尔,显然希望在 2024-2025 年间实现赶超,并通过将芯片制造业重心从亚洲拉回美国本土以重现辉煌。OL9esmc
在俄勒冈州新命名的戈登摩尔园区(Gordon Moore Park),英特尔开设了致力于下一代制造工艺的新芯片制造工厂。与此同时,其 D1X 晶圆厂也投入了 30 亿美元的 Mod3 扩建资金。OL9esmc
取得成功之后,英特尔有望在全球布局的晶圆厂内推广 D1X 工艺。如果能够在 2024 下半年顺利提前完成预定目标,这对该公司的代工业务部门来说也是个好兆头。OL9esmc
为了从台积电和三星那边挖来芯片代工业务,英特尔已透露 IFS 客户能够用上该公司的 Intel 3 和 Intel 18A 工艺。今年 2 月,帕特·基辛格展示过基于测试芯片的 18A 晶圆,但尚未披露其进展的更多细节。OL9esmc
言归正传,新建的 27 万平方英尺 Mod3 大楼具有足够高的天花板、以及足够坚固的地板,能够容纳用于将电路蚀刻到晶圆硅片上的最新机器。OL9esmc
英特尔逻辑技术发展副总裁 Ryan Russell 指出,经过数月的处理步骤,这些微芯片就可完成交付。OL9esmc
最后,尽管在先进的极紫外光刻工艺方面,英特尔一度落后于台积电 / 三星。但随着爱尔兰 Fab34 工厂完成了首套 EVU 设备的安装,意味着该公司将奋起直追。OL9esmc
英特尔爱尔兰Fab 34芯片制造工厂迎来首台EUV光刻机OL9esmc
芯片巨头英特尔在位于爱尔兰 Leixlip 的 Fab 34 工厂,完成了首台极紫外(EUV)光刻机的安装。两个月前,该公司才开始在该晶圆厂安装首台芯片制造设备。而由荷兰阿斯麦(ASML)制造的这台 EUV 光刻机,先是被运到了美国俄勒冈州的 Hillsboro,接着又被转运到了欧洲。OL9esmc
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视频截图(来自:Intel Ireland)OL9esmc
目前尚不清楚英特尔为何要让这台机器绕地球这么一大圈,一种猜测是英特尔在俄勒冈州进行了早期检测、以确保光刻机符合该公司的严格要求。OL9esmc
此外预计这台机器是安装在爱尔兰 Fab 34 工厂中的第一台 EUV 光刻机,并作为英特尔 7nm(Intel 4)工艺技术的关键推动者。OL9esmc
据说这套设备总共动用了 4 架未知型号的波音飞机来空运,然后由 35 辆卡车陆运至 Fab 34 。OL9esmc
最后,英特尔官方透露,自去年 12 月以来,这些“工具”已分批发送,但直到最近才完成组装。OL9esmc
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